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設(shè)備,【無(wú)塵打磨房】有口皆碑

更新時(shí)間:2025-07-19 20:52:08 ip歸屬地:武漢,天氣:晴,溫度:26-35 瀏覽次數(shù):27    公司名稱:贛州 越浩節(jié)能設(shè)備(武漢市分公司)

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產(chǎn)品參數(shù)
產(chǎn)品價(jià)格98/臺(tái)
發(fā)貨期限1天
供貨總量866
運(yùn)費(fèi)說(shuō)明免費(fèi)
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催化燃燒廢氣處理設(shè)備。解吸后的吸收劑經(jīng)過(guò)溶劑冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經(jīng)過(guò)冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開汽提塔,被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化,其他情況下需要作相應(yīng)的工藝調(diào)整。 催化燃燒廢氣處理設(shè)備 根據(jù)狀態(tài)、溫度和離子密度,等離子體通??梢苑譃楦邷氐入x子體和低溫等離子體(包子體和冷等離子體)。其中高溫等離子體的電離度接近1,各種粒子溫度幾乎相同系處于熱力學(xué)平衡狀態(tài),它主要應(yīng)用在受控?zé)岷朔磻?yīng)研究方面。而低溫等離子體則學(xué)非平衡狀態(tài),各種粒子溫度并不相同。其中電子溫度( Te)≥離子溫度(Ti),可達(dá)104K以上,而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300~500K。一般氣體放電子體屬于低溫等離子體。




工業(yè)廢氣處理設(shè)備。解吸出的VOCs氣體經(jīng)過(guò)冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開汽提塔,被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化,其他情況下需要作相應(yīng)的工藝調(diào)整。 在用多孔性固體物質(zhì)處理流體混合物時(shí),流體中的某一組分或某些組分可被吸表面并濃集其上,此現(xiàn)象稱為吸附。吸附處理廢氣時(shí),吸附的對(duì)象是氣態(tài)污染物,氣固吸附。被吸附的氣體組分稱為吸附質(zhì),多孔固體物質(zhì)稱為吸附劑。固體表面吸附了吸附質(zhì)后,一部被吸附的吸附質(zhì)可從吸附劑表面脫離,此現(xiàn)附。 工業(yè)廢氣處理設(shè)備 特點(diǎn):① 不需要高成本的化學(xué)藥劑,運(yùn)行穩(wěn)定,耐腐蝕,耐負(fù)荷沖擊能力大。② 針對(duì)特定有害氣體成份馴化適當(dāng)?shù)奈⑸?,提高單位容積的負(fù)荷率。③ 填料采用有機(jī)無(wú)機(jī)混合填料,比表面積大,孔隙率高,并可為微生物提供營(yíng)養(yǎng),可支撐大量不同種群微生物群。④ 填料活性介質(zhì)的損失小、可減少能耗,降低運(yùn)行費(fèi)用。采用強(qiáng)化自然生物降解污染物,無(wú)二次污染物產(chǎn)生。VOC去除率高,對(duì)H2S的去除率可達(dá)99%。 PLC控制系統(tǒng)自動(dòng)運(yùn)行,無(wú)需人員管理。



光催化是常溫深度反應(yīng)技術(shù)。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機(jī)污染物完全氧化成無(wú)害的產(chǎn)物,而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術(shù)則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀,即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫,燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效,其原理是用過(guò)量的空氣使這些雜質(zhì)燃燒,大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣,可以排放到大氣中。但當(dāng)處理含氯和含硫的有機(jī)化合物時(shí),燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2,需要對(duì)燃燒后氣體進(jìn)一步處理設(shè)備。 從理論上講,只要半導(dǎo)體吸收的光能不小于其帶隙能,就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴,該半導(dǎo)體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對(duì)特定反應(yīng)有突出優(yōu)點(diǎn),具體研究中可根據(jù)需要選用,如CdS半導(dǎo)體帶隙能較小,跟太陽(yáng)光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易發(fā)生光腐蝕,使用壽命有限。相對(duì)而言,Ti02的綜合性能較好,是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。




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