4月16日，三星宣布完成5nm FinFET工藝開發(fā)，臺積電則推出了6nm（N6）工藝，都將利用EUV光刻，在2020年開始投產(chǎn)。
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雖然目前由于宏觀經(jīng)濟(jì)環(huán)境不確定性導(dǎo)致終端市場的短期波動，但EUV出貨量增長和DUV盈利能力加強(qiáng)，使得一季度銷售額和毛利率水平略高于預(yù)期，尤其是看到來自臺灣的收入占比由2018年四季度的20%提高到2019年一季度的43%。
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平澤是三星目前在華城以外 可以在韓國建造的額外非存儲產(chǎn)線的地方。繼2017年起在平澤設(shè)立的建筑面積達(dá)289萬平方米的 條產(chǎn)線后，計(jì)劃于今年11月建立第二條產(chǎn)線。由于仍有空間可以設(shè)立兩到三條產(chǎn)線，三星計(jì)劃建立下一條非存儲產(chǎn)線時很有可能仍在平澤。業(yè)內(nèi)人士也表示，三星的代工投資計(jì)劃和政政策不謀而合，將被給予厚望。
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