本技術(shù)提供一種計算機可讀存儲介質(zhì)，采用如下的技術(shù)方案：一種計算機可讀存儲介質(zhì)，存儲有能夠被處理器加載并執(zhí)行如上任一種方法的計算機程序。 23.綜上所述，本技術(shù)包括以下至少一種有益技術(shù)效果：1.一次上下料即可完成規(guī)格標記與定位標記的加工，無需重復上下料，提高了花鍵管的加工效率；2.下壓驅(qū)動源驅(qū)使子模沖頭沖壓花鍵管的同時，牽引繩在下壓驅(qū)動源的驅(qū)使下帶動標記刀沖頭擠壓定位標記刀，定位標記刀在標記刀沖頭的驅(qū)使下在花鍵管的外側(cè)壁上加工定位標記，一個驅(qū)動源即可完成規(guī)格標記與定位標記的加工，節(jié)省了成本。

但是，這種方法存在著殘鹽附著于花鍵精密異形無縫管表面難以清理、坩堝壽命短、滲硼層質(zhì)量難以控制等缺點。當前硼砂用鹽浴滲硼的配方較多，且各有特點，下面介紹幾種，供選擇時參考：1)以硼砂為基料，以碳化硅為還原劑。該制劑成本低，鹽浴穩(wěn)定性好，能得到單相的Fe2B滲層。但是流動性稍差，花鍵精密異形無縫管粘著殘鹽量大，花鍵管清洗困難。以硼砂為基料，以鋁粉為還原劑。該鹽浴流動性好，活性強，無需頻繁更換新鹽，滲層為雙相結(jié)構(gòu)。

花鍵管液態(tài)硼滲[工藝代號535-03(B)]工藝守則(1)工藝特點，20#精密異型管液態(tài)硼滲的滲硼劑由供硼劑、還原劑、活化劑等組成。一般可分為以內(nèi)兩類：1)用硼砂(包括硼酐、硼酸)作供硼劑，另加少量碳化硅、硅鈣鐵、硅鐵、錳鐵、鋁、硅、鎂等作還原劑(熔鹽-熔鹽)。二是用B4C作供硼劑，用硼砂、氯化物作還原劑(鹽鹵)。 滲硼鹽浴比鹵化鹽浴穩(wěn)定，且能溶解金屬氧化物，使花鍵精密異形無縫管表面清潔，有利于滲入元素的吸附擴散。且滲層比較致密(無嚴重的孔洞和疏松)，鹽浴無污染，因而應(yīng)用廣泛。但是，其缺點是鹽浴粘度大，流動性比鹵浴差，花鍵精密異形無縫管損耗大，附著在花鍵精密異形無縫管表面的鹽難于。液態(tài)滲硼因其原料經(jīng)濟，供應(yīng)充足，設(shè)備簡單，操作方便，可直接淬火，適合于批量生產(chǎn)，是目前廣泛采用的滲硼工藝之一。