光催化是常溫深度反應技術(shù)。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無害的產(chǎn)物，而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術(shù)則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫,燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效，其原理是用過量的空氣使這些雜質(zhì)燃燒，大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時，燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2，需要對燃燒后氣體進一步處理設(shè)備。 從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。

印刷廢氣處理設(shè)備,化學洗滌除臭設(shè)備適用于污水處理廠、制藥廠、化工廠等具有堿性或酸性且濃度比較高的尾氣治理?；钚蕴砍粼O(shè)備采取切線出風、環(huán)狀過濾、中間進風、上不加料、下部卸料的結(jié)構(gòu)，克服了傳統(tǒng)的活性炭過濾器過濾阻力大、面積小、占地面積大、設(shè)備投資高、更換活性炭困難等缺陷，使活性炭過濾設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計近乎于完美。 印刷廢氣處理設(shè)備 ，但使用環(huán)保廢氣處理凈化設(shè)備后，可有效去除油污顆粒、油霧顆粒等廚房廢氣，對空氣凈化起到一定的作用。加工車間包括油炸食品加工車間、油炸烹飪食品加工車間等。加工車間的環(huán)境是煙熏的，但如果操作環(huán)境過于渾濁，影響經(jīng)營者的加工，則必須使用無害環(huán)境的廢氣處理和凈化設(shè)備。 廢氣處理設(shè)備用于處理中低濃度的有機廢氣(VOC)。它的工作原理是在高溫下將可燃廢氣氧化成對應的氧化物和水，從而凈化廢氣，并回收廢氣分解時所釋放出來的熱量，廢氣分解效率達到99%以上，熱回收效率達到95%以上。RTO廢氣處理設(shè)備主體結(jié)構(gòu)由燃燒室、陶瓷填料床和切換閥等組成。 涂裝噴漆廢氣主要為揮發(fā)性有機物VOCs、苯系物、顆粒物、惡臭氣體等污染因子，主要汽車制造、家具行業(yè)、船舶制造、集裝箱制造、金屬制品、機械設(shè)備、鐵路制造等表面處理時產(chǎn)生的。廢氣主要污染污染源分兩類：1.顆粒物產(chǎn)生于基本表面處理時產(chǎn)生粉塵、噴涂法作業(yè)過程噴漆霧、膩子層、中間涂層打磨粉塵；2.VOCs有機廢氣產(chǎn)生于調(diào)漆過程溶劑揮發(fā)、施涂/涂覆過程溶劑揮發(fā)、噴涂作業(yè)過噴漆霧帶離、干燥固化過程溶劑揮發(fā)、干燥固化反應產(chǎn)生的新?lián)]發(fā)物。