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真空滅弧室 按照開關(guān)型式不同有外屏蔽罩式陶瓷真空滅弧室、中間封接杯狀縱磁場小型化真空滅弧室、內(nèi)封接式玻璃泡滅弧室，其基本結(jié)構(gòu)如下： ①氣密絕緣系統(tǒng)(外殼) 由陶瓷、玻璃或微晶玻璃制成的氣密絕緣筒、動端蓋板、定端蓋板、不銹鋼波紋管組成的氣密絕緣系統(tǒng)是一個真空密閉容器。為了保證氣密性，除了在封接式要有嚴(yán)格的操作工藝，還要求材料本身透氣性和內(nèi)部放氣量小。 ②導(dǎo)電系統(tǒng) 由定導(dǎo)電桿、定跑弧面、定觸頭、動觸頭、動跑弧面、動導(dǎo)電桿構(gòu)成。觸頭結(jié)構(gòu)大致有三種：圓柱形觸頭、帶有螺旋槽跑弧面的橫向磁場觸頭、縱向磁場觸頭。目前采用縱磁場技術(shù)，此種滅弧室具有強而穩(wěn)定的電弧開斷能力。 ③屏蔽系統(tǒng) 屏蔽罩是真空滅弧室中不可缺少的元件，并且有圍繞觸頭的主屏蔽罩、波紋管屏蔽罩和均壓用屏蔽罩等多種。主屏蔽罩的作用是：a防止燃弧過程中電弧生成物噴濺到絕緣外殼的內(nèi)壁，從而降低外殼的絕緣強度。b改善滅弧室內(nèi)部電場分布的均勻性，有利于降低局部場強，促進真空滅弧室小型化。c冷凝電弧生成物，吸收一部分電弧能量，有助于弧后間隙介質(zhì)強度的恢復(fù)。 操作機構(gòu) 按照斷路器型式不同，采用的操作機構(gòu)不同。常用的操作機構(gòu)有彈簧操作機構(gòu)、CD10電磁操作機構(gòu)、CD17電磁操作機構(gòu)、CT19彈簧儲能操作機構(gòu)、CT8彈簧儲能操作機構(gòu)。 其它部件 基座、絕緣支撐件、絕緣子等



戶外真空斷路器的操作主要包括儲能過程、?合閘過程、?分閘過程和過流保護過程。? 儲能過程涉及拉動機構(gòu)手動儲能拉環(huán)或給機構(gòu)電動儲能信號，?電機帶動儲能拐臂給儲能彈簧儲能，?通過儲能保持環(huán)節(jié)保持此能量。? 合閘過程包括拉動機構(gòu)手動合閘拉環(huán)或給機構(gòu)電動合閘信號，?合閘彈簧能量釋放，?機構(gòu)輸出軸轉(zhuǎn)動，?通過拐臂、?連桿帶動滅弧室動觸頭向上運動，?與靜觸頭接觸，?并提供接觸壓力，?同時為分閘彈簧儲能，?通過機構(gòu)的合閘保持環(huán)節(jié)正常扣接使斷路器保持合閘狀態(tài)。? 分閘過程涉及拉動機械手動分閘拉環(huán)或機構(gòu)電動分閘信號，?機構(gòu)的合閘保持環(huán)節(jié)解扣，?在觸頭壓力彈簧和分閘彈簧的作用下，?機構(gòu)輸出軸反向轉(zhuǎn)動，?通過連桿、?拐臂帶動滅弧室觸頭向下運動，?與靜觸頭分開，?斷路器分閘。?分閘狀態(tài)點開關(guān)分閘彈簧保持。? 過流保護過程適用于配置電液互感器的斷路器，?當(dāng)流經(jīng)斷路器主回路的電流超過互感器的額定值時，?驅(qū)動機構(gòu)內(nèi)部過流脫扣器，?斷路器分閘。? 此外，?真空斷路器的操作還需遵循一定的規(guī)范和操作規(guī)程，?包括但不限于：? 在額定工作電流下的頻繁操作或多交開斷短路電流的場所適用。? 停運的斷路器在投入運行前應(yīng)對本體及保護裝置進行細(xì)致的檢查，?必要時進行保護裝置的傳動試驗。? 操作中應(yīng)同時監(jiān)視有關(guān)電壓、?電流、?功率等指示及紅綠燈的變化是否正常。? 在帶電情況下，?嚴(yán)禁使用千斤頂或壓板緩慢合閘。? 電動分、?合閘后，?若發(fā)現(xiàn)分、?合閘未成功，?應(yīng)立即取下控制保險或跳開控制電源開關(guān)，?以防燒壞分、?合閘線圈。? 斷路器動作后，?應(yīng)查看有關(guān)的信號及測量儀表的指示，?并到現(xiàn)場檢查斷路器實際分、?合閘位置




回路電阻 回路電阻值是表征導(dǎo)電回路的聯(lián)接是否良好的一個參數(shù)，各類型產(chǎn)品都規(guī)定了一定范圍內(nèi)的值。若回路電阻超過規(guī)定值時，很可能是導(dǎo)電回路某一連接處接觸不良。在大電流運行時接觸不良處的局部溫升增高，嚴(yán)重時甚至引起惡性循環(huán)造成氧化燒損，對用于大電流運行的斷路器尤需加倍注意。回路電阻測量，不允許采用電橋法測量，須采用GB763規(guī)定的直流壓降法。 觸頭系統(tǒng) “真空斷路器”的觸頭常采取對接式觸頭。因為一般的真空斷路器在分閘狀態(tài)下動靜觸頭的距離只有16mm這么小的距離很難制作出其他形狀的接觸面，而且平直的接觸面瞬間動作電弧的損傷也較小。真空斷路器的優(yōu)點之一是體積小，動靜觸頭要在一個真空的空間內(nèi)動作，如果制作成其他的對接方式也會增加斷路器自身的體積！



發(fā)展簡史 播報 編輯 1893年，美國的里頓豪斯提出了結(jié)構(gòu)簡單的真空滅弧室，并獲得了設(shè)計專利。1920年瑞典佛加公司次制成了真空開關(guān)。1926年等公布的研究成果也顯示了在真空中分?jǐn)嚯娏鞯目赡苄裕蚍謹(jǐn)嗄芰π?，又受到真空技術(shù)和真空材料發(fā)展水平的限制，尚不能投入實際使用。隨著真空技術(shù)的發(fā)展，50年代美國才制成批適用于切斷電容器組等特殊要求的真空開關(guān),分?jǐn)嚯娏魃型Ｔ?千安的水平。由于真空材料冶煉技術(shù)上的進步和真空開關(guān)觸頭結(jié)構(gòu)研究上所取得的突破，1961年，開始生產(chǎn)15千伏、分?jǐn)嚯娏鳛?2.5千安的真空斷路器。1966年試制成15千伏、26千安和31.5千安的真空斷路器，從而使真空斷路器進入了高電壓、大容量的電力系統(tǒng)。80年代中期，真空斷路器的分?jǐn)嗄芰σ堰_(dá)100千安。中國從1958年開始研制真空開關(guān)，1960年西安交通大學(xué)和西安開關(guān)整流器廠共同研制成批6.7千伏、分?jǐn)嗄芰?00安的真空開關(guān);隨后又制成10千伏、分?jǐn)嗄芰?.5千安的三相真空開關(guān)。1969年華光電子管廠和西安




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