產(chǎn)品細(xì)節(jié)圖
日本進(jìn)口耐磨板經(jīng)冷加工塑性變形可以提高其強(qiáng)度。這是由于日本進(jìn)口耐磨板在塑性變形后位錯運(yùn)動的阻力增加所致。固溶強(qiáng)化通過合金化(加入合金元素)組成固溶體,使日本進(jìn)口耐磨板得到強(qiáng)化稱為固溶強(qiáng)化。相變強(qiáng)化。通過熱處理等手段發(fā)生固態(tài)相變,獲得需要的組織結(jié)構(gòu),使日本進(jìn)口耐磨板得到強(qiáng)化,稱為相變強(qiáng)化。
相變強(qiáng)化可以分為兩類沉淀強(qiáng)化(或稱彌散強(qiáng)化)。在日本進(jìn)口耐磨板中能形成穩(wěn)定化合物的合金元素,在一定條件下,使之生成的第二相化合物從固溶體中沉淀析出,彌散地分布在組織中,從而有效地提高日本進(jìn)口耐磨板的強(qiáng)度,通常析出的合金化合物是碳化物相。
日本進(jìn)口耐磨板表面超硬化處理方法主要有物理氣相沉積(PVD),化學(xué)氣相沉積(CVD),物理化學(xué)氣相沉積(PCVD),擴(kuò)散法金屬碳化物履層技術(shù),其中,PVD法具有沉積溫度低,工件變形小的優(yōu)點(diǎn),但由于膜層與基體的結(jié)合力較差,工藝?yán)@鍍性不好,往往難以發(fā)揮超硬化合物膜層的性能優(yōu)勢。
CVD法具有膜基結(jié)合力好,工藝?yán)@鍍性好等突出優(yōu)點(diǎn),但對于大量的日本進(jìn)口耐磨板而言,其后續(xù)基體硬化處理比較麻煩,稍有不慎,膜層就易破壞。因此其應(yīng)用主要集中在硬質(zhì)合金等材料上。
PCVD法沉積溫度低,膜基結(jié)合力及工藝?yán)@鍍性均較PVD法有較大改進(jìn),但與擴(kuò)散法相比,膜基結(jié)合力仍有較大差距,此外由于PCVD法仍為等離子體成膜,雖然繞鍍性較PVD法有所改善,但無法。
由擴(kuò)散法金屬碳化物覆層技術(shù)形成的金屬碳化物覆層,與基體形成冶金結(jié)合,具有PVD、PCVD無法比擬的膜基結(jié)合力,因此該技術(shù)真正能夠發(fā)揮超硬膜層的性能優(yōu)勢,此外,該技術(shù)不存在繞鍍性問題,后續(xù)基體硬化處理方便,并可多次重復(fù)處理,使該技術(shù)的適用性更為廣泛。
對于耐磨板來說,生產(chǎn)加工中溫度的變化將直接影響整個板材性能,所以一直以來都在研究耐磨鋼板等溫處理的效果,結(jié)果發(fā)現(xiàn)不同加熱溫度下,耐磨板的連續(xù)冷卻轉(zhuǎn)變曲線、微觀組織、物相及相似結(jié)構(gòu)相也都隨之發(fā)生了變化。
耐磨板等溫處理的研究手段包括了很多優(yōu)異的技術(shù),如光學(xué)顯微鏡、透射電子顯微鏡、X射線衍射儀及電子背散射衍射技術(shù)等。隨著退火溫度的升高,耐磨板中鐵素體的相比例會逐漸降低,升高的是貝氏體,而其中殘余的奧氏體則會以橢圓狀和細(xì)條狀分布在鐵素體晶界及晶內(nèi)。
當(dāng)加熱溫度由完全奧氏體化溫度降低到兩相區(qū)內(nèi)較高溫度時,耐磨板連續(xù)冷卻轉(zhuǎn)變曲線中鐵素體轉(zhuǎn)變區(qū)左移。這時只要通過790℃加熱保溫,可以得到含有鐵素體、貝氏體和殘留奧氏體的多相組織。
當(dāng)保溫溫度進(jìn)一步提高之后,工藝時間會直接影響到耐磨板中鐵素體晶粒尺寸、鐵素體量以及鐵素體基體上的位錯密度和沉淀析出量;隨著貝氏體區(qū)保溫時間的延長,耐磨鋼板中殘余奧氏體體積分?jǐn)?shù)先增大后減少,殘余奧氏體中碳含量增多。
當(dāng)加熱溫度處在兩相區(qū)范圍內(nèi)時,隨著加熱溫度的降低,鐵素體轉(zhuǎn)變被推遲,奧氏體的含碳量也會有所不同。在相同的拉伸變形階段,奧氏體轉(zhuǎn)化率的增加速率不同,使得耐磨板連續(xù)冷卻轉(zhuǎn)變曲線右移。
另外,如果等溫時間相同的話,等溫溫度越高,殘余奧氏體中的碳含量越大,耐磨鋼板中的鐵素體、貝氏體晶界或者相界面1μm以上大顆粒奧氏體發(fā)生相變,相應(yīng)的其性能也會有變化。
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