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工廠廢氣處理設(shè)備可率解決苯、二甲苯、非甲烷總烴等有機廢氣,也可率解決*、氨等惡臭味汽體,是運用普遍、清潔實際效果合乎環(huán)境保護規(guī)定的廢氣設(shè)備,作為閱歷豐富的低溫等離子廢氣處理設(shè)備廠家,大家的機器設(shè)備早已取得成功的運用于塑膠、硫化橡膠、噴涂、食品工業(yè)等許多 制造行業(yè)。 工廠廢氣處理設(shè)備 各種工業(yè)廢氣處理設(shè)備都有其合適的處理濃度,但濃度過高,處理效果不完全,不能達到排放標(biāo)準(zhǔn)。過低,將不可避免地造成不必要的運營成本。因此,買方根據(jù)廢氣濃度選擇工業(yè)廢氣處理設(shè)備后,廢氣排放濃度應(yīng)盡可能控制在設(shè)備的處理濃度范圍內(nèi)。廢氣種類:廢氣種類很多,每種廢氣的濃度都不一樣。在高濃度的情況下,如果工業(yè)廢氣處理設(shè)備不符合濃度范圍的要求,工業(yè)廢氣處理設(shè)備的運行將處于異常狀態(tài)。有些有機廢氣是酸性的,如氯、硫等元素,會對設(shè)備造成一定的腐蝕,從而影響其正常運行。




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光催化是常溫深度反應(yīng)技術(shù)。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無害的產(chǎn)物,而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術(shù)則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀,即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫,燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效,其原理是用過量的空氣使這些雜質(zhì)燃燒,大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣,可以排放到大氣中。但當(dāng)處理含氯和含硫的有機化合物時,燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2,需要對燃燒后氣體進一步處理設(shè)備。 從理論上講,只要半導(dǎo)體吸收的光能不小于其帶隙能,就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴,該半導(dǎo)體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應(yīng)有突出優(yōu)點,具體研究中可根據(jù)需要選用,如CdS半導(dǎo)體帶隙能較小,跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易發(fā)生光腐蝕,使用壽命有限。相對而言,Ti02的綜合性能較好,是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。



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