

化學(xué)鍍銅技術(shù)起始于1947年,Narcus首先報(bào)道了化學(xué)鍍銅溶液化學(xué)。初始階段化學(xué)鍍銅液的穩(wěn)定性很差,溶液易自動(dòng)分解,且施鍍范圍不能控制,所有與溶液接觸的地方都有沉積物。而真正意義上的商品化學(xué)鍍銅出現(xiàn)于20世紀(jì)50年代,隨著印制線路板(PCB)通孔金屬化的發(fā)展,化學(xué)鍍銅得到了早的應(yīng)用。 個(gè)類似現(xiàn)代的化學(xué)鍍銅溶液由Cahill公開發(fā)表于1957年,鍍液為堿性酒石酸銅鍍?cè)?,甲醛為還原劑?,F(xiàn)在,經(jīng)過50多年的開發(fā)研究,形成了相對(duì)完善的化學(xué)鍍的溶液化學(xué)知識(shí)以及工藝技術(shù)基礎(chǔ),并建立了初步的基礎(chǔ)理論體系。
化學(xué)鍍銅是在有鈀等催化活性物質(zhì)的表面,通過甲醛等還原劑的作用,使銅離子還原析出?;瘜W(xué)鍍銅相對(duì)于電鍍銅的優(yōu)勢(shì)主要有:①基體范圍廣泛;②鍍層厚度均勻:③工藝設(shè)備簡(jiǎn)單:④鍍層性能良好。



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電鍍銅用于鑄模,鍍鎳,鍍鉻,鍍銀和鍍金的打底,
修復(fù)磨損部分,防止局部滲碳和提高導(dǎo)電性。分為堿性鍍銅和酸性鍍銅二法。通常為了獲得較薄的細(xì)致光滑的銅鍍層,
將表面除去油銹的鋼鐵等制件作陰極,純銅板作陽極,掛于含有氰化亞銅、 和碳酸鈉等成分的堿性電鍍液中,進(jìn)行堿性( )鍍銅。
為了獲得較厚的銅鍍層,必須先將鍍件進(jìn)行堿性鍍銅,再置于含有硫酸銅、硫酸鎳和硫酸等成分的電解液中,進(jìn)行酸性鍍銅。此外,還有焦磷酸鹽、
酒石酸鹽、乙二胺等配制的無氰電解液。焦磷酸鹽電解液已被廣泛采用
在化學(xué)鍍銅過程中CU2+離子得到電子還原為金屬銅,還原劑放出電子,本身被氧化。其反應(yīng)實(shí)質(zhì)和電解過程相同,只是得失電子的過程是在短路狀態(tài)下進(jìn)行的,在外部看不到電流的流通。因此化學(xué)鍍是一種非常節(jié)能的電解過程,因?yàn)樗鼪]有外接電源,電解時(shí)沒有電阻壓降隕耗。從一個(gè)簡(jiǎn)單的實(shí)例可以證明:化學(xué)鍍銅時(shí)可以將印制板以間隔5-10mm的距離排放,一次浸入到化學(xué)鍍銅液中進(jìn)行鍍銅,而用電鍍法是無法做到的?;瘜W(xué)鍍銅可以在任何非導(dǎo)電的基體上進(jìn)行沉積,利用這一特點(diǎn)在印制板制造中得到了廣泛的應(yīng)用。應(yīng)用多的是進(jìn)行孔金屬化,來完成雙面或多層印制板層間導(dǎo)線的聯(lián)通。另外用一次沉厚銅的加成法制造印制板。



材料表明銅層較厚且為99.99%的電解銅分子,平均厚度大于0.25mm,因而耐腐蝕性強(qiáng),使用壽命長(zhǎng)達(dá)50年以上。由于表層銅層由99.99%的電解銅分子組成,因而具有優(yōu)良的導(dǎo)電性能,自身電阻遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于常規(guī)材料。
該產(chǎn)品適用于不同濕度、溫度及PH值的土壤條件,配件齊全,使用專用連接管或采用倍速達(dá)熱熔焊劑連接,接頭牢固,安裝便捷,大大提高了施工效率。

鍍銅(copper plating)銅鍍層是重要的防護(hù)裝飾性鍍層銅/鎳/鉻體系的組成部分,柔韌而孔隙率低的銅鍍層,對(duì)于提高鍍層間的結(jié)合力和耐蝕性起重要作用。銅鍍層還用于局部的防滲碳、印制板孔金屬化,并作為印刷輥的表面層。經(jīng)化學(xué)處理后的彩色銅層,涂上有機(jī)膜,還可用于裝飾。目前使用多的鍍銅溶液是 鍍液、硫酸鹽鍍液和焦磷酸鹽鍍液。
通常添加劑會(huì)出現(xiàn)兩種情形:
◆ 增加反應(yīng)過程上極化(Polarized或超電壓)者,將會(huì)出現(xiàn)踩車的現(xiàn)象而減緩電鍍的速率。
◆ 減少極化(Depolarized,一般譯為去極化)者,則具有加大油門的效果而加速電鍍之進(jìn)行。
極限電流密度(Limited Current Density)








