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吸附脫附催化燃燒設備有文獻表明,催化燃燒裝置催化焚燒時的“燃氣/空氣比值”范圍一般在4%~11%之間;在必定的焚燒條件之下,燃/空比為6%時,天然氣就能完成較好的催化焚燒作用,焚燒體系就可以得到熱效率,一起又能取得較好的排放作用。 吸附脫附催化燃燒設備 焚燒器溫度調理可以通過文本顯示器的鍵盤輸入,改動變頻器的輸出頻率,調理恰當?shù)娘L量。當風量增大,焚燒溫度超越設定值,則PLc操控變頻器降低輸出頻率,減少出風量來安穩(wěn)焚燒器的溫度。若變頻器輸出頻率低于設定值(風機出風量頻率,設為5 Hz),而出風量仍高于設定值時,PLc開端計時,若在必定時刻內,降低到設定值,PLc拋棄計時,持續(xù)變頻調速運轉;若在必定時刻內溫度仍高于設定,PLc將持續(xù)調理,直至到達設定值。由PLc經PID運算后操控變頻器的頻率輸出;如溫度不行,則頻率上升,延時堅持必定時刻。反之亦然。 化燃燒裝置可以說是一種較為常見的通過催化反應(無明火)處理有機污染物的方法,具有適用范圍廣,結構簡單,凈化速率高,節(jié)能、無二次污染等優(yōu)點,催化燃燒廢氣處理,為了避免催化劑床層的堵塞和催化劑中毒,廢氣在進入床層之前需要進行預處理,以除去廢氣中的粉塵、液滴及催化劑的毒物。希望大家在選購時選購一款比較適合自己的廢氣處理設備。



光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無害的產物,而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀,即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫,燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效,其原理是用過量的空氣使這些雜質燃燒,大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣,可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時,燃燒生成產物中HCl或SO2,需要對燃燒后氣體進一步處理設備。 從理論上講,只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能,就足以激發(fā)產生電子和空穴,該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點,具體研究中可根據需要選用,如CdS半導體帶隙能較小,跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易發(fā)生光腐蝕,使用壽命有限。相對而言,Ti02的綜合性能較好,是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。

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