膜厚儀在不同環(huán)境下影響要素有哪些

1、基體金屬磁性質(zhì)

磁性法測厚受基體金屬磁性改變的影響(在實(shí)際使用中，低碳鋼磁性的改變能夠認(rèn)為是輕的)，為了防止熱處理和冷加工要素的影響，應(yīng)使用與試件基體金屬具有相同性質(zhì)的規(guī)范片對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn);亦可用待涂覆試件進(jìn)行校準(zhǔn)。

2、基體金屬電性質(zhì)

基體金屬的電導(dǎo)率對(duì)丈量有影響，而基體金屬的電導(dǎo)率與其資料成分及熱處理辦法有關(guān)。使用與試件基體金屬具有相同性質(zhì)的規(guī)范片對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn)。

3、基體金屬厚度

每一種儀器都有一個(gè)基體金屬的臨界厚度。大于這個(gè)厚度，丈量就不受基體金屬厚度的影響。

4、邊際效應(yīng)

本儀器對(duì)試件外表形狀的陡變靈敏。因而在靠近試件邊際或內(nèi)轉(zhuǎn)角處進(jìn)行丈量是不牢靠的。

5、曲率

試件的曲率對(duì)丈量有影響。這種影響總是隨著曲率半徑的削減明顯地增大。因而，在彎曲試件的外表上丈量是不牢靠的。

6、試件的變形

丈量頭會(huì)使軟覆蓋層試件變形，因而在這些試件上測出牢靠的數(shù)據(jù)。

7、外表粗糙度

基體金屬和覆蓋層的外表粗糙程度對(duì)丈量有影響。粗糙程度增大，影響增大。粗糙外表會(huì)引起系統(tǒng)誤差和偶然誤差，每次丈量時(shí)，在不同方位上應(yīng)添加丈量的次數(shù)，以克服這種偶然誤差。如果基體金屬粗糙，還有必要在未涂覆的粗糙度相類似的基體金屬試件上取幾個(gè)方位校對(duì)儀器的零點(diǎn);或用對(duì)基體金屬?zèng)]有腐蝕的溶液溶解除掉覆蓋層后，再校對(duì)儀器的零點(diǎn)。

8、磁場

周圍各種電氣設(shè)備所產(chǎn)生的強(qiáng)磁場，會(huì)嚴(yán)重地?cái)嚁_磁性法測厚工作。

9、附著物質(zhì)

本儀器對(duì)那些妨礙丈量頭與覆蓋層外表緊密觸摸的附著物質(zhì)靈敏，因而，有必要鏟除附著物質(zhì)，以保證儀器丈量頭和被測試件外表直觸摸摸。

10、丈量頭壓力

丈量頭置于試件上所施加的壓力大小會(huì)影響丈量的讀數(shù)，因而，要堅(jiān)持壓力恒定。

11、丈量頭的取向

丈量頭的放置方式對(duì)丈量有影響。在丈量中，應(yīng)當(dāng)使丈量頭與試樣外表堅(jiān)持垂直。

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簡述恒溫恒濕箱的維修保養(yǎng)

1、恒溫恒濕箱 箱體內(nèi)外部的清潔與保養(yǎng)

機(jī)器在操作前應(yīng)先將內(nèi)部雜質(zhì)﹝物﹞。配電室內(nèi)每年至少清潔一次以上，清潔時(shí)可利用吸塵器將室內(nèi)灰塵吸除即可。箱體外部每年亦須清洗一次以上，清洗時(shí)先用肥皂水擦拭即可。

2、恒溫恒濕箱 加濕器之檢查與保養(yǎng)

加濕器內(nèi)之儲(chǔ)水應(yīng)每月更換一次，確保水質(zhì)清潔，加濕水盤應(yīng)每一個(gè)月清洗一次，確保水流順暢。

3、恒溫恒濕箱 濕球測試布之更換

當(dāng)測試布表面不干凈或變硬，或于做完溫度控制后，繼續(xù)做溫濕球度控制前都必須更換測試布。

測試布約三個(gè)月更換一次，更換時(shí)應(yīng)用清潔布擦拭測溫體﹝Sen-sor﹞，更換新測試布時(shí)應(yīng)先清洗干凈。

4、恒溫恒濕箱 濕球水位之檢查與調(diào)整

積水筒水位不可過高，使水溢出積水筒或過低使?jié)袂驕y試布吸水不正常，影響濕球的準(zhǔn)確性?水位大約保持六分滿即可。

積水筒水位之調(diào)整，可調(diào)整積水盒的高低﹝調(diào)整兩側(cè)螺絲﹞。

5、冷凝器灰塵之

冷凝器應(yīng)定期每月保養(yǎng)，利用真空吸塵器將冷凝器散熱網(wǎng)片上附著之灰塵吸除或利用高壓空氣噴除灰塵。

6、檢查超溫保護(hù)器

本機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，超溫保護(hù)之設(shè)定zui高值加20℃~30℃。

試驗(yàn)箱內(nèi)之溫度升至超溫保護(hù)之設(shè)定點(diǎn)時(shí)，加熱器之供電即停止，”O(jiān)VERHEAT”超溫警示燈亮但風(fēng)扇仍運(yùn)轉(zhuǎn)，若長時(shí)間運(yùn)轉(zhuǎn)及無人看管，運(yùn)轉(zhuǎn)前請(qǐng)務(wù)必確實(shí)檢查超溫保護(hù)器，是否設(shè)定妥當(dāng)?﹝濕球超溫保護(hù)器之設(shè)定為120℃﹞。