光氧廢氣處理設(shè)備氣體分子被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個(gè)體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。 光氧廢氣處理設(shè)備 特點(diǎn)：① 采用單級(jí)或多級(jí)串聯(lián)洗滌，對(duì)污染物去除徹底，去除效率高。② 處理高濃度惡臭廢氣具有明顯優(yōu)勢(shì)，運(yùn)行穩(wěn)定。③ 具有啟動(dòng)速度快、可間歇運(yùn)行、耐沖擊負(fù)荷強(qiáng)、受溫度影響小、運(yùn)行穩(wěn)定等特點(diǎn)。④ 自動(dòng)化程度高，占地面積小,化學(xué)洗滌除臭設(shè)備適用于污水處理廠、制藥廠、化工廠等具有堿性或酸性且濃度比較高的尾氣治理。活性炭除臭設(shè)備采取切線出風(fēng)、環(huán)狀過濾、中間進(jìn)風(fēng)、上不加料、下部卸料的結(jié)構(gòu)，克服了傳統(tǒng)的活性炭過濾器過濾阻力大、面積小、占地面積大、設(shè)備投資高、更換活性炭困難等缺陷，使活性炭過濾設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)近乎于完美。

工業(yè)廢氣處理設(shè)備。解吸出的VOCs氣體經(jīng)過冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開汽提塔，被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化，其他情況下需要作相應(yīng)的工藝調(diào)整。 在用多孔性固體物質(zhì)處理流體混合物時(shí)，流體中的某一組分或某些組分可被吸表面并濃集其上，此現(xiàn)象稱為吸附。吸附處理廢氣時(shí)，吸附的對(duì)象是氣態(tài)污染物，氣固吸附。被吸附的氣體組分稱為吸附質(zhì)，多孔固體物質(zhì)稱為吸附劑。固體表面吸附了吸附質(zhì)后，一部被吸附的吸附質(zhì)可從吸附劑表面脫離，此現(xiàn)附。 工業(yè)廢氣處理設(shè)備 特點(diǎn)：① 不需要高成本的化學(xué)藥劑，運(yùn)行穩(wěn)定，耐腐蝕，耐負(fù)荷沖擊能力大。② 針對(duì)特定有害氣體成份馴化適當(dāng)?shù)奈⑸?，提高單位容積的負(fù)荷率。③ 填料采用有機(jī)無機(jī)混合填料，比表面積大，孔隙率高，并可為微生物提供營(yíng)養(yǎng)，可支撐大量不同種群微生物群。④ 填料活性介質(zhì)的損失小、可減少能耗，降低運(yùn)行費(fèi)用。采用強(qiáng)化自然生物降解污染物，無二次污染物產(chǎn)生。VOC去除率高，對(duì)H2S的去除率可達(dá)99%。 PLC控制系統(tǒng)自動(dòng)運(yùn)行，無需人員管理。