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工作原理及流程：催化凈化是典型的氣固相催化反應，其實質(zhì)是活性氧參與的深度氧化作用。在催化凈化過程中，催化劑的作用是降低活化能，同時催化劑表面具有吸附作用，使反應物分子富集于表面提高了反應速率，加快了反應的進行。借助催化劑可使有機廢氣在較低的起燃溫度條件下，發(fā)生無焰燃燒，并氧化分解為CO2和H2O，同時放出大量熱能，從而達到去除廢氣中的有害物的方法。 吸附法關鍵適用較低濃度的煤層氣氣體空氣污染物的凈化，濃度較高的有機化學煤層氣汽體在吸附凈化前必須減少濃度值。吸附技術(shù)是經(jīng)典、常見的有機廢氣處理技術(shù)，也是工業(yè)化生產(chǎn)中的流行技術(shù)之一。吸附法的核心技術(shù)是吸附劑、吸附機設備和加工技術(shù)、再制造材料和后處理技術(shù)。活性炭具有較大的比表面積和微孔結(jié)構(gòu)，廣泛應用于有機氣的吸附和回收?，F(xiàn)階段，活性炭吸附有機廢氣的科學研究關鍵集中化在吸附平衡的預測分析、活性碳原材料的改性及其有機化合物的理化性質(zhì)對活性炭吸附特性的危害。

光催化是常溫深度反應技術(shù)。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無害的產(chǎn)物，而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術(shù)則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫,燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效，其原理是用過量的空氣使這些雜質(zhì)燃燒，大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時，燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2，需要對燃燒后氣體進一步處理設備。 從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。